Kundenspezifische Quarz Wafer

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Kundenspezifische Quarz Wafer



Neben den ab Lager verfügbaren Quarz Wafern bietet Plan Optik in Serienproduktion hergestellte Quarz Wafer (SiO2) aus hochreinem Material an. Im Gegensatz zu kristallinem Quarz werden diese Wafer aus amorphem Quarzglas hergestellt. Sie zeichnen sich insbesondere durch sehr hohe Oberflächengüten und geringe mechanische Toleranzen aus.

Bei Quarzwafern von Plan Optik handelt es sich um hochreine, alkali- und fluoreszenzfreie Substrate für eine Vielzahl von Anwendungen. Aus diesem Grund finden Sie Anwendung in der Halbleiterfertigung und als Beschichtungssubstrate. Typische Anwendungen beinhalten Hochfrequenzmodule, optische Splitter sowie Mikrofluidiken und Anwendungen aus dem Medizinbereich.

Plan Optiks Quarz Wafer sind beständig gegenüber sehr hohen Temperaturen.

Materialien



A) Plan Optik Standardmaterial (Vorzugsmaterial)

Dieses Quarzglas ist kompatibel zu nahezu allen Anwendungen im Bereich Halbleiter, Labor, Medizin und Optik. Es zeichnet sich insbesondere durch eine sehr hohe Temperaturbeständigkeit und niedrige Floreszenz aus.

Für Anwendungen im fernen UV siehe B).


Material Amorphes Quarzglas (SiO2)
Haupteigenschaften alkalifrei
niedrige Fluoreszenz
niedriger OH-Gehalt
hohe Temperaturbeständigkeit
Thermische Daten  
Erweichungspunkt
Oberer Kühlpunkt
Unterer Kühlpunkt
Max. Einsatztemperatur (kontinuierlich)
Max. Einsatztemperatur (kurzzeitig)
1710 °C
1220 °C
1125 °C
1160 °C
1300 °C
Wärmeleitfähigkeit
W/(m K))
20 °C: 1.38
100 °C: 1.47
200 °C: 1.55
300 °C: 1.67
400 °C: 1.84
950 °C: 2.68
Thermischer Ausdehnungskoeffizient (cte)
(10-6 K-1)
0..100 °C: 0.51
0..200 °C: 0.58
0..300 °C: 0.59
0..600 °C: 0.54
0..900 °C: 0.48
-50..0 °C: 0.27
Spezifische Wärmekapazität
(J/(kg K))
0..100 °C: 772
0..500 °C: 964
0..900 °C: 1052
Mechanische Daten  
Dichte (kg/m3)
Mohs-Härte
Knoop-Härte (N/mm2)
E-Modul (20 °C; MPa)
Querkontraktionszahl

2203
5.5..6.5
5800..6100
72500
0.17
Elektrische Daten  
Spezifischer Widerstand
(Ω cm)
20 °C: 1.0 x 1018
400 °C: 1.0 x 1010
800 °C: 6.3 x 106
1200 °C: 1.3 x 105
Durchschlagsfestigkeit
(KV/mm; sample thickness ≥ 5 mm)
20 °C: 25..40
500 °C: 4..5
Dielektrischer Verlustwinkel (tg δ) 1 KHz: 5.0 x 10-4
1 MHz: 1.0 x 10-4
3 x 1010 Hz: 4.0 x 10-4
Dielektrizitätszahl (ε) 20 °C; 0..106 Hz: 3.70
23 °C; 9x108 Hz: 3.77
23 °C; 3x1010 Hz: 3.81
Chemische Daten
Verunreinigungen (ppm)

Al Ca Cr Cu Fe K Li Mg Mn Na Ti Zr Oh
15 0.5 < 0.05 < 0.05 0.1 0.4 0.6 0.05 < 0.05 0.3 1.1 0.7 < 30


Optische Daten  
Transmission
(typisch; 1 mm dick; inklusive Fresnel-Reflexionsverluste)
200 nm: 75%
250 nm: 87%
300..3500 nm: 92%

B) optionale Materialtypen

Plan Optik produziert Quarz Wafer unter Verwendung aller verfügbarer Quarzglastypen. Dies beinhaltet Typen, die für Laseranwendungen verwendet werden, als auch Quarzgläser für Anwendungen im tiefen UV.

Fragen Sie uns! Wir finden das richtige Material für Ihre Anwendung.


Abmessung

Plan Optik produziert Quarz Wafer in den folgenden Abmessungen:

Durchmesser bis zu 200 mm
Rechteckige Teile bis zu 200 mm Kantenlänge
Dicken von 200 µm (0,2 mm) bis 6 mm


Oberflächenqualität

Plan Optiks Quarz Wafer sind als ein- oder doppelseitig polierte oder ein- oder doppelseitig geschliffene Wafer verfügbar.


Lasermarkierung


Plan Optiks Quarz Wafer erhalten optional alphanumerische, fortlaufende Lasermarkierungen. QR Codes sind ebenfalls erhältlich.


Strukturierung

Plan Optik bietet auch bei Quarzwafern die volle Palette an Oberflächen-Mikrostrukturierung. Dies beinhaltet sandgestrahlte, gebohrte, geschliffene und geätzte Strukturen. Mehr Informationen zu unseren Strukturierungsmöglichkeiten finden Sie unter "Packaging Wafer".


Beschichtung

Plan Optik's Quarz Wafer werden optional mit Beschichtungen wie Entspiegelungen (AR), elektrisch leitenden Schichten (ITO) und vielen mehr versehen werden.