Carrier Wafer

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Oberfläche



Plan Optik bietet Carrierwafer wahlweise mit geschliffenen oder polierten Oberflächen an. Die Oberflächenbeschaffenheit kann anwendungsspezifisch gewählt werden. So bieten beispielsweise geschliffene Oberflächen (Rauheit ab 80 nm) den Vorteil der besseren Verteilung von Bondmedien, die zur Aufbringung der Halbleiterwafer eingesetzt werden.


Standardpolitur


Rauigkeit Ra < 1,5 nm
Material für alle Materialien verfügbar

Geschliffene Oberflächen



Rauigkeit Ra ab 0,1 µm
Material für alle Materialien verfügbar

Die Kombination der beschriebenen Oberflächen innerhalb eines Wafers ist ebenso möglich wie die Herstellung der Oberflächen nach kundenspezifisch vorgegebenen Parametern.