紫外線曝光光學

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紫外線曝光光學


使用於主機板(PCB)的曝光製程



作為世界上最大的紫外線曝光印刷電路板製造設備的光學設備供應商,Plan Optik 在這領域提供多種產品:曝光玻璃,曲面鏡,冷光鏡,反射鏡,凸透鏡陣列和熱反射濾光片。


紫外線曝光光學


曝光玻璃


這些曝光玻璃作為使用於印刷電路板曝光時的承載光罩底片。由於化學與熱穩定性,他們保證了高度的作業安全和性能。

為了製造這些曝光玻璃,Plan Optik 使用一種具有高紫外線穿透的高品質特殊白玻璃,這個材料在低雜質和表面品質等方面進行了提升。與先前一般常用的標準浮法鈉鈣玻璃相比,這個材質具有相當高的紫外線穿透率。這使得在曝光電路板線路時可以減少 10% 的時間。


材料 紫外線曝光玻璃(PCB)
尺寸 最大為 1500 mm x 1000 mm
品質分類(等級)

1級(使用於非平行光曝光機的標準品質)
最大刮傷寬度:0.06 mm
最大雜質尺寸:0.40 mm

2級(使用於高品質的非平行光曝光機)
最大刮傷寬度:0.04 mm
最大雜質尺寸:0.20 mm

3級(使用於平行光曝光機的標準品質)
最大刮傷寬度:0.03 mm
最大雜質尺寸:0.10 mm

4級(使用於高品質的平行光曝光機)
最大刮傷寬度:0.02 mm
最大雜質尺寸:0.06 mm
加工選擇 溝槽,穿孔,盲孔,邊緣階梯段差加工,皆按客戶需求規格進行

曲面鏡(球面鏡)


這些球面鏡讓照明系統內的紫外線光產生偏向並在同時轉為平行射出。可透過高精密的拋光製程來調整不同的曲率半徑。


材料 鈉鈣玻璃
尺寸 最大為 1100 mm x 1100 mm
厚度 12 mm(標準)- 其他厚度也可以提供
曲率半徑 2800 mm(標準)- 其他曲率也可以提供
表面 經過光學級拋光的鏡面品質
鍍膜 鋁鍍膜加上石英的保護膜
針對紫外線光穿透進行強化(365 - 435 nm)

冷光鏡


這些平面鏡的功能是確保所需的紫光線光和紅外線輻射(熱)進行分光。藉由使用特殊介質鍍膜優化紫外線光區段以及達到最大的熱穿透,並在同一時間幾近無耗損地的反射紫外線光。


材料 高耐熱硼矽酸玻璃或是陶瓷玻璃
尺寸 最大為 700 mm x 700 mm
厚度 1 - 6 mm
表面 表面可作光學級拋光
鍍膜 紫外線冷光介質鍍膜
針對紫外線光穿透進行強化(365 - 435 nm)

平面反射鏡


這些平面鏡是設備進行雙面曝光時的首選,因為如果需要的話,它們可以整合到光路中。使用一種針對紫外線優化的特殊鋁鍍膜層,幾乎無耗損地反射紫外線光。


材料 鈉鈣玻璃或是耐熱的硼矽酸玻璃
尺寸 最大為 850 mm x 750 mm
厚度 1 - 6 mm
表面 表面可作光學級拋光
鍍膜 強化的鋁反射層與石英表面保護膜層
針對紫外線光穿透進行強化(365 - 435 nm)

平行光凸透鏡陣列(或稱為 "fly eyes")


這些透鏡陣列是經由耐高溫的鍵合方式將多個單一透鏡貼合在一起。在光學系統內他們的功能是使紫外線光穿透並均勻化。


材料 耐熱石英玻璃
陣列結構組成 單一透鏡組成陣列 - 如由 5x6 或 6x7 個單一透鏡組成陣列
尺寸 標準長度為 50 到 100 mm
厚度 標準為 6 到 8 mm
表面 光學拋光
鍍膜 介質(Dielectric)熱隔絕鍍膜
針對紫外線光穿透進行強化(365 - 435 nm)

熱反射濾光片


這些濾光片可減少熱輻射,使用於紫外線光系統的時機通常是不希望或是不能使用冷光鏡時。產品具有高紫外線穿透的介質鍍膜並可同時減少紅外線輻射的穿透。這些濾光片較多應用在非平行光的曝光系統。


材料 耐熱的硼矽酸玻璃
尺寸 最大為 700 mm x 700 mm
厚度 2 - 6 mm
表面 表面可作光學級拋光
鍍膜 選擇抗反射鍍膜可增加穿透率